簡要描述:光學系統光學結構帕邢-龍格結構的全譜真空型光學系統光室溫度自動控制恒溫:35℃±0.5℃波長范圍160-800nm光柵焦距350mm光柵刻線3600l/mm光譜線色散率1.2nm/mm探測器多塊高性能線陣CCD平均分辨率10pm/pixel激發臺氣體沖氬式氬氣流量激發時3-5L/min
光學系統 | |
光學結構 | 帕邢-龍格結構的全譜真空型光學系統 |
光室溫度 | 自動控制恒溫:35℃±0.5℃ |
波長范圍 | 160-800nm |
光柵焦距 | 350 mm |
光柵刻線 | 3600 l/mm |
光譜線色散率 | 1.2 nm/mm |
探測器 | 多塊高性能線陣CCD |
平均分辨率 | 10pm/pixel |
激發臺 | |
氣 體 | 沖氬式 |
氬氣流量 | 激發時3-5L/min, 待機時:無須待機流量 |
電 極 | 鎢材噴射電極技術 |
吹 掃 | 點擊自吹掃功能 |
補 償 | 熱變形自補償設計 |
分析間隙 | 樣品臺分析間隙:4mm |
激發光源 | |
類 型 | HEPS數字化固態光源 |
頻 率 | 100-1000Hz |
放電電流 | 1-80A |
特殊技術 | 放電參數優化設計 |
預 燃 | 高能預燃技術 |
數據采集系統 | |
處理器 | ARM處理器,高速數據同步采集處理 |
接 口 | 基于DM9000A的以太數據傳輸 |
電源與環境要求 | |
輸 入 | 220VAC 50Hz |
功 率 | 分析時700W,待機狀態40W |
工作溫度 | 10-30℃(該溫度范圍內溫度變化不大于5℃/h) |
工作濕度 | 20-80% |
尺寸與重量 | |
主機尺寸 | 800*750*500 mm |
重 量 | 120Kg |
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